單片式硅外延生長爐模型
單片式硅外延生長爐模型
單片式硅外延生長爐是一種輻射加熱式的、氣體注射式的單晶片處理系統，系統利用化學氣相沉積(CVD)的原理在硅晶片表面生長一層厚度均勻的不摻雜型或摻雜型外延層，適用于直徑分別為6英寸和8英寸的硅晶片。系統生長的外延層厚度可控，其晶體結構與襯底硅晶片相同，屬于同質外延。
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單片式硅外延生長爐是一種輻射加熱式的、氣體注射式的單晶片處理系統，系統利用化學氣相沉積(CVD)的原理在硅晶片表面生長一層厚度均勻的不摻雜型或摻雜型外延層，適用于直徑分別為6英寸和8英寸的硅晶片。系統生長的外延層厚度可控，其晶體結構與襯底硅晶片相同，屬于同質外延。
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